DB21T 2070-2013 硅酸铝质耐火材料化学分析原子吸收光谱法
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8F6366D7837C45F19BF9478B9CA95656 |
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doc |
日期: |
2016-12-9 |
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ICS??????,点击此处添加中国标准文献分类号,????? DB21,辽宁省地方标准,DB 21/ XXXXX-201X,????? ,硅酸铝质耐火材料化学分析,原子吸收光谱法,Chemical analysis of aluminosilicatere fractories,Atomic absorption spectrometry methods, (本稿完成日期:2011年07月12日) 201X - XX - XX发布,201X - XX - XX实施,辽宁省质量技术监督局???发布,目??次,前言 II,1 范围 1,2 规范性引用文件 1,3 残留的二氧化硅的测定 1,4 氧化铁的测定 3,5 氧化钛的测定 4,6 氧化锰的测定 5,7 氧化钙的测定 6,8 氧化镁的测定 7,9 氧化钠的测定 7,10 氧化钾的测定 8,11 氧化磷的测定 9,附录A(资料性附录) 各元素分析值允许差 11,前??言,本标准按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草,本标准的附录A为资料性附录,本标准由辽宁省质量技术监督局提出,本标准由辽宁省质量技术监督局归口,本标准负责起草单位:辽宁省产品质量监督检验院,本标准主要起草人: 姜大伟 何成 杜鹏 杨孝岐 迟硕 杨猛 姜琪,本标准由辽宁省产品质量监督检验院负责解释,本标准为首次发布,硅酸铝质耐火材料化学分析原子吸收光谱法,1 范围,本标准规定了用原子吸收光谱法(AES)测定硅酸铝质耐火材料原料和制品中二氧化硅(SiO2)、三氧化二铝(Al2O3)、三氧化二铁(Fe2O3)、二氧化钛(TiO2)、氧化锰(MnO)、氧化钙(CaO)、氧化镁(MgO)、氧化钠(Na2O)、氧化钾(K2O)和五氧化二磷(P2O5)的方法,2 规范性引用文件,下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅所注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件,GB/T 8170 数值修约规则,GB/T 10325 定形耐火制品抽样验收规则,GB/T 17617 耐火原料和不定形耐火材料取样,DB****-201*,硅酸铝质耐火材料化学分析试剂制备、试样分解与重量法测定二氧化硅的方法,DB****-201*,硅酸铝质耐火材料化学分析方法,3 残留的二氧化硅的测定,3.1 原理,使用AES法测定原液(S1或者S′1)中残留的二氧化硅量,3.2 试剂,按照DB****-201*和下面的要求准备指定的试剂,3.2.1 氧化铝溶液,Al2O3(5mg/mL),称2.65g的金属铝(纯度>99.5%,Si<0.001%)放进铂皿。加入100mL的盐酸(1+1),然后用表面皿盖上铂皿放进蒸汽浴缸中加热便于金属溶解。冷却后,在容量瓶中用水稀释到1L,3.2.2 基质溶液1,将氧化铝溶液(5mg/mL))倒一部分到500mL容量瓶中,用水稀释到标记线上。保持溶液新鲜以便需要时用,3.2.3 基质溶液2或者2′,按照DB****-201*中的4.2.2.3或者4.2.3.3步骤制样,但是省略掉加热熔化混合物或者无水碳酸钠的步骤。这种制备的溶液和原液(S1或者S′1)等值,称之为基质溶液2或者2′,3.2.4 用来校正的2系列溶液,取一些整数倍的二氧化硅标准溶液(0.2 mg/mL)倒进一组100mL的容量瓶中,要和样品的成分一致。分别加入10mL基质溶液1和基质溶液2或者2′中的一个到容量瓶中,然后加水稀释到标记线上,注:表1是很典型的一个制备溶液的例子。准备一系列的溶液来校正,以便和样品的成分保持一致,同时也列出了所用仪器的类型和功能,表1 用来校正的2系列溶液,2系列校正液,编号 基质溶液1,mL 基质溶液2或者2′,mL 稀释过的标准二氧化硅溶液,mL 溶液浓度,SiO2 mg/100mL 1 10 10 0 0 2 10 10 1 0.2 3 10 10 2 0.4 4 10 10 5 1.0 5 10 10 10 2.0 6 10 10 15 3.0 3.3 步骤,按照下面步骤确定溶液S1或者S′1(DB****-201*中的4.2.2.3 或者4.2.3.3)中二氧化硅的含量,从原液S1或者S′1中倒10mL到一个100mL容量瓶中,然后用水稀释到标记线上。这个溶液是为了测定二氧化硅溶解量,我们称之为稀释过的原液S1d或者S′1d,将稀释过的原液S1d或者S′1d取出一部分喷射到AES中的火焰氩等离子体上,然后在251.6nm波长处测量吸光度,3.4 空白试验,按照3.3的步骤制作空白溶液B1或者B′1。稀释过的空白溶液B1或者B′1相当于稀释过的原液S1d或者S′1d,我们称之为B1d或者B′1d,3.5 绘制曲线图来校正,使用2系列校正溶液按照3.3中的喷射步骤进行实验。绘制喷射强度和氧化物质量之间的关系图,并且通过调整校准这个曲线图表,以便它经过原点,新校正的完成必须是在一定值域范围内的校正,并且要测定每个空白溶液的值,3.6 计算,二氧化硅的量来源于3.3和3.4以及3.5中校正的量,二氧化硅的质量分数按公式(1)计算:,(1),式中:,-二氧化硅的质量分数(%);,m -DB****-201*中的4.2.2.2 或者4.2.3.2试样质量的数值,单位为克(g);,m1-m2 -DB****-201*中4.2.2.3或者4.2.3.3章节中的质量差别,单位为克(g);,m3 -3.3中稀释原液S1d或者S′1d中的二氧化硅量,单位为克(g);,m4……
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